A Preliminary Study on TiO2 Nanotube Arrays Based Photoinduced Confined Etching System

摘要

田昭武院士提出的约束刻蚀剂层技术（CELT）已经在半导体材料，金属材料及合金上成功实现了微纳尺度三维复杂结构加工。从原理上来说，由于CELT具有有效控制刻蚀程度及对距离敏感的特点，如果将原有的三维微图案工具简化成一个二维纳米精度的平面工具，通过精确控制工具与工件的相对运动，在工件表面进行微纳米尺度的去除加工，那么加工后的工件表面应为一粗糙度与工具表面相当的超平整面。因此，CELT有可能发展成为一种新的无应力的抛光技术。 微电子制造中对Cu表面进行平坦化是Cu的图案化工艺--双大马士革工艺不可缺少的部分，目前工艺上主要通过CMP实现。随着现代微电子设备集成度的提高，由于抛光压力会对Cu产生表面...