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Novel Electrochemical microfabrication Methods and Applications Based on Confined Chemical Etching

机译:基于受限化学刻蚀的电化学微细加工新方法及其应用

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摘要

微/纳米技术正逐步广泛深入地渗透于材料、信息、能源、微电子、环境、生物、医学和国防安全等众多领域。为了将微/纳米科技领域的这些革命性产品/系统概念转化为规模化的实际应用,微/纳米制造技术是不可或缺的技术桥梁。发展高精度、低成本的批量化微/纳制造技术具有十分重大的战略意义。 虽然目前已经发展出了许多批量化的微/纳米制造技术,但是在半导体表面批量加工复杂三维多级结构仍然存在着巨大挑战。约束刻蚀剂层技术(CELT)是由田昭武院士提出的具有完全国内知识产权的电化学微/纳加工技术。CELT不仅能批量复制加工复杂三维微/纳结构,而且加工材料可以是导体、半导体或绝缘体。因而相比其他微/纳制造技术具有十分突...
机译:微/纳米技术正逐步广泛深入地渗透于材料、信息、能源、微电子、环境、生物、医学和国防安全等众多领域。为了将微/纳米科技领域的这些革命性产品/系统概念转化为规模化的实际应用,微/纳米制造技术是不可或缺的技术桥梁。发展高精度、低成本的批量化微/纳制造技术具有十分重大的战略意义。 虽然目前已经发展出了许多批量化的微/纳米制造技术,但是在半导体表面批量加工复杂三维多级结构仍然存在着巨大挑战。约束刻蚀剂层技术(CELT)是由田昭武院士提出的具有完全国内知识产权的电化学微/纳加工技术。CELT不仅能批量复制加工复杂三维微/纳结构,而且加工材料可以是导体、半导体或绝缘体。因而相比其他微/纳制造技术具有十分突...

著录项

  • 作者

    张杰;

  • 作者单位
  • 年度 2015
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 zh_CN
  • 中图分类

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