机译:脉冲金属有机化学气相沉积在(111)Ir / TiO_2 / SiO_2 / Si和(111)Pt / TiO_2 / SiO_2 / Si衬底上制备的Pb(Zr,Ti)O_3薄膜的电学性质对膜厚的依赖性
机译:化学溶液沉积法在(100)和(001)取向SrLaAlO_4衬底上生长的LaNiO_3薄膜的结构和电学性质
机译:膜厚和化学计量比对不同浴温下化学浴沉积法制备的CdS量子点薄膜的电,光和光探测器性能的影响
机译:钛酸钡(BATIO_3)和BA_(1-X)ND_XTIO_3薄膜通过化学溶液沉积(CSD)方法的微观结构,光学和电性能
机译:通过常压金属有机化学气相沉积法沉积的氮化铝薄膜的电,结构和光学性质。
机译:等离子体增强原子层沉积在低温下沉积的HfO2薄膜的结构光学和电学性质
机译:通过化学溶液沉积法在(100)和(001)定向的SrlaAlO4基材上生长的LaniO3薄膜的结构和电性能