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Nearly Aberration-Free Multiphoton Polymerization into Thick Photoresist Layers

机译：几乎无像差的多光子聚合成厚的光致抗蚀剂层

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Bence Horváth; Pál Ormos; Lóránd Kelemen;
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年度 2017
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1. Nearly Aberration-Free Multiphoton Polymerization into Thick Photoresist Layers [J] . Pál Ormos, Bence Horváth, Lóránd Kelemen Micromachines . 2017,第7期

机译：几乎没有像差的多光子聚合成厚光刻胶层
2. Effective baking of thick and ultra-thick photoresist layers by infrared radiation [J] . M. Kubenz, U. Ostrzinski, F. Reuther, Microelectronic Engineering . 2003,第Jun期

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3. Patterned thick photoresist layers for protection of protruding structures during wet and dry etching processes [J] . Indermuhle PF., Dellmann L., de Rooij NF., Journal of Micromechanics and Microengineering . 1998,第2期

机译：图案化的厚光致抗蚀剂层，用于在湿法和干法蚀刻过程中保护突出结构
4. Microfabrication of high permittivity metamaterials with tall metal inclusions in thick photoresist layers [C] . M. Tayfeh Aligodarz, D. M. Klymyshyn, M. Boerner, MikroSystemTechnik Kongress . 2015

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5. Precision excimer laser lithography for cylindrical substrates with thick photoresists. [D] . Cole, Robert L. 2004

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6. Nearly Aberration-Free Multiphoton Polymerization into Thick Photoresist Layers [O] . Bence Horváth, Pál Ormos, Lóránd Kelemen 2017

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7. Acrylated hyperbranched polymer photoresist for ultra-thick and low-stress high aspect ratio micropatterns [O] . Lars Erik Schmidt, Soyeon Yi, Young-Hyun Jin, 2008

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8. Hole Formation (Etching) in Polymers by Far (Deep) UV High Intensity Laser (Eximer) Radiation Pulses and Its Relevance to Photoresists in Deep UV Photolysis of Polymers [R] . Jellinek, H. G., Partch, R., Kacki, H. 1988

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