首页> 外文OA文献 >Hole-mobility-limiting atomic structures in hydrogenated amorphous silicon
【2h】

Hole-mobility-limiting atomic structures in hydrogenated amorphous silicon

机译:氢化非晶硅中的空穴迁移率限制原子结构

代理获取
本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务,本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文,但由于OA文献来源多样且变更频繁,仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况,如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

摘要

Low hole mobility currently limits the efficiency of amorphous silicon photovoltaic devices. We explore three possible phenomena contributing to this low mobility: coordination defects, self-trapping ionization displacement defects, and lattice expansion allowing for hole wave-function delocalization. Through a confluence of experimental and first-principles investigations, we demonstrate the fluidity of the relative prevalence of these defects as film stress and hydrogen content are modified, and that the mobility of a film is governed by an interplay between various defect types.
机译:低空穴迁移率目前限制了非晶硅光伏器件的效率。我们探索了导致这种低迁移率的三种可能现象:配位缺陷,自陷电离位移缺陷和晶格扩展,从而使空穴波函数离域。通过实验和第一性原理研究的融合,我们证明了随着膜应力和氢含量的改变,这些缺陷的相对普遍性的流动性,并且膜的迁移率受各种缺陷类型之间相互作用的支配。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
代理获取

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号