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Fabrication and testing of dual gate p-channel MOSFETs

机译:双栅p沟道mOsFET的制造和测试

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摘要

In this thesis, I fabricated and tested p-channel dual gate MOSFETs that will be used to make conductance and resistance measurements of nanocrystalline solids. Using MOSFETs with narrow gates, we can measure the resistance of these nanocrystals, which are typically extremely high. The group had previously used n-channel MOSFETs, and this project tests the potential for using p-channel devices. This thesis discusses the fabrication techniques and challenges, as well as G-Vg, threshold voltage, and hole mobility measurements from wide gate devices, which are used as a proof of concept for the narrow gate devices. Future work in the group will finish fabricating and testing narrow gate devices.
机译:在本文中,我制造并测试了p沟道双栅极MOSFET,该MOSFET将用于测量纳米晶体固体的电导和电阻。使用具有窄栅极的MOSFET,我们可以测量通常非常高的这些纳米晶体的电阻。该小组以前使用过n沟道MOSFET,该项目测试了使用p沟道器件的潜力。本文讨论了宽栅极器件的制造技术和挑战以及G-Vg,阈值电压和空穴迁移率测量,这些技术被用作窄栅极器件的概念证明。该小组未来的工作将完成窄门器件的制造和测试。

著录项

  • 作者

    Easley Justin Lavaughn;

  • 作者单位
  • 年度 2013
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类

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