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【2h】

Pulsed plasma enhanced chemical vapor deposition of fluorocarbon thin films for dielectric applications

机译：用于介电应用的脉冲等离子体增强化学气相沉积碳氟化合物薄膜

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by Catherine B. Labelle.

机译：由凯瑟琳B.

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作者
Labelle Catherine B. 1972-;
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年度 1999
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正文语种 eng
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