机译:电子束光刻的计量学和低于10 nm的抗蚀剂对比度
机译:在电子束光刻图案化的区域上引导形成低于10 nm的硅化物点阵列
机译:基于镍的负色调金属氧化物簇的研制抗亚10 nm电子束和氦离子束光刻的抗蚀剂
机译:用于掩模制造的电子束光刻仿真:IV。抗蚀剂对比对等焦剂量的影响
机译:嵌段共聚物在压缩二氧化碳中的相行为以及作为单畴层纳米光刻抗蚀剂的亚10纳米图案转移
机译:海藻糖糖醇抗性可通过电子束光刻直接写入蛋白质图案
机译:使用最近开发的氧化铝抗蚀剂的Sub-10 NM电子和氦离子束光刻