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Hyperthermal molecular beam dry etching of III-V compound semiconductors

机译：III-V族化合物半导体的热分子束干法刻蚀

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by Isako Hoshino.

机译：星野功子

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作者
Hoshino Isako.;
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年度 1997
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1. Ⅲ-V族三元化合物半导体材料分子束外延的生长热力学 [J] . 叶志成, 舒永春, 曹雪, 中国有色金属学报（英文版） . 2011,第001期
2. Ⅲ-Ⅴ族三元化合物半导体材料分子束外延的生长热力学 [J] . 叶志成, 舒永春, 曹雪, 中国有色金属学报：英文版 . 2011,第001期
3. Preventive Maintenance of Molecular Beam Epitaxy (MBE) Machine for the Growth of III-V Compound Semiconductors [J] . C GHANSHYAM, SATINDER SINGH, SUNITA MISHRA IETE Technical Review . 2007,第6期

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4. Studies on incorporation of As_2 and As_4 in III-V compound semiconductors with two group V elements grown by molecular beam epitaxy [J] . Zhi-Biao Hao, Zai-Yuan Ren, Wen-Ping Guo Journal of Crystal Growth . 2001,第3a4期

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