Temperature homogenization with tungsten absorber on X-ray mask

机译：在X射线掩模上用钨吸收剂进行温度均匀化

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by Huiying Li.

机译：by Hui音GL i.

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作者
Li Huiying;
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年度 1994
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1. Microfabrication of thick tungsten films for use as absorbers of deep X-ray lithography masks [J] . H. Okuyama, Y. Hirata, H. Takada Microsystem technologies . 2001,第2期

机译：用作深X射线光刻掩模吸收剂的厚钨膜的超细加工
2. Absorber embedded x-ray mask for high aspect ratio polymeric optical components [J] . Kim JT, Choi CG Journal of Micromechanics and Microengineering . 2005,第3期

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3. Equations of exposure time and X-ray mask absorber thickness in the LIGA process [J] . K. H. Gil, S. S. Lee, Y. Youm Microsystem technologies . 2001,第1期

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4. Mask prototyping for ultradeep x-ray lithography: preliminary studies for mask blanks and high-aspect-ratio absorber patterns [C] . Chantal Khan Malek, Louisiana State Univ., Baton Rouge, Conference on materials and device characterization in micromachining . 1998

机译：用于超深X射线光刻的掩模原型：掩模坯料和高纵横比吸收体图案的初步研究
5. Reduction of carbon dioxide to carbon monoxide by low-valent tungsten complexes; benchmark compounds for tungsten L1-edge x-ray absorption spectroscopy and synthesis, structures and, IR spectroscopy of iron dithiolene nitrosyl complexes [D] . Jayarathne, Thebuwana Acharige Upul. 2012

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7. Fabrication of distortion free x-ray masks using low stress tungsten [O] . Ku Yao-Ching 1992

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