机译:使用感应耦合的Cl_2 / BCl_3 / CH_4等离子体对GaAs / GaInP / AlGaInP进行平滑和垂直刻蚀
机译:富铝AIGaAs和AIGaAsSb中高纵横比二维光子晶体的电感耦合等离子体刻蚀
机译:二维GaAs基光子晶体中低纳米级气孔阵列感应耦合等离子体刻蚀的优化
机译:使用感应耦合等离子体刻蚀制造二维inp光子带隙结构
机译:电感耦合等离子体刻蚀反应器中离子流和硅刻蚀速率的二维均匀性
机译:使用各向同性电感耦合等离子体蚀刻的硅纳米尖端批量制造
机译:通过电感耦合等离子体刻蚀和快速湿法刻蚀制备高品质因子GaAs / InAsSb光子晶体微腔