机译:二氧化铈磨料中镧掺杂对浅沟槽隔离化学机械抛光选择性的影响
机译:浅沟槽隔离化学机械平面化中二氧化铈颗粒与抛光垫之间的附着力控制
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机译:沟槽深度与浅沟隔离 - 化学机械抛光过程中沟槽深度与缺陷的相关性
机译:二氧化硅,钨和浅沟隔离化学机械平面化工艺与垫微纹理,调节圆盘型和年龄,摩擦学,流体动力学和动力学相关的新型研究
机译:化学机械抛光实施后化学机械抛光对钛植入物表面性质的影响FT-IR和钛植入物表面的润湿性数据
机译:反向音蚀浅沟槽隔离化学机械抛光的建模