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机译:通过金属催化蚀刻制造高纵横比硅纳米结构阵列
Chang Shih-wei Ph.D. Massachusetts Institute of Technology;
机译:使用近场扫描光学光刻和硅各向异性湿法刻蚀工艺制备高纵横比的硅纳米结构
机译:使用自组装金金属辅助化学刻蚀制备超高深宽比硅纳米结构
机译:通过使用Au金属辅助化学蚀刻制备超高纵横比(> 160:1)硅纳米结构
机译:金属催化化无电蚀刻方法及其太阳能电池应用制造硅纳米线
机译:使用纳米球面光刻和RIE刻蚀制造二维纳米结构阵列及其在光学器件中的应用。
机译:通过深反应离子蚀刻制造高纵横比硅光栅
机译:通过氯化铯自组装和干法蚀刻制造具有高纵横比的硅纳米尖端阵列
机译:具有纳米级间距的高纵横比锗纳米结构及其制造方法
机译:金属辅助化学刻蚀,可制造高纵横比和直形硅纳米柱阵列以进行排序
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