首页> 外文OA文献 >Proximity Effects in a Chemically Amplified Electron Beam Resist Patterned at 100 keV

【2h】

Proximity Effects in a Chemically Amplified Electron Beam Resist Patterned at 100 keV

机译：化学放大的电子束抗蚀剂的接近效应在100keV下图案化

代理获取

本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务，本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文，但由于OA文献来源多样且变更频繁，仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况，如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

页面导航

著录项
引文网络
相似文献
相关主题

著录项

作者
Tiddi William; Greibe Tine; Beleggia Marco; Han Anpan;
展开▼
作者单位

展开▼
年度 2015
总页数
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. Theoretical study on effects of electron thermal energy on sensitization process of chemically amplified electron beam resists-contribution to resist heating effect in electron beam mask writing [J] . Kozawa Takahiro, Tamura Takao Japanese journal of applied physics . 2019,第11期

机译：电子热能对化学放大电子束抗蚀剂敏化过程的理论研究抵抗电子束罩写入中的加热效果
2. Theoretical study of fabrication of line-and-space patterns with 7 nm quarter-pitch using electron beam lithography with chemically amplified resist processes: II. Stochastic effects [J] . Kozawa Takahiro Japanese journal of applied physics . 2015,第9期

机译：使用电子束光刻技术和化学放大的抗蚀剂工艺制造7纳米四分之一间距的线和空间图案的理论研究：II。随机效应
3. Correlation between C_(37) Parameters and Acid Yields in Chemically Amplified Resists upon Exposure to 75keV Electron Beam [J] . Kenichiro Natsuda, Takahiro Kozawa, Kazumasa Okamoto, Japanese journal of applied physics . 2009,第6issue2期

机译：暴露于75keV电子束的化学放大抗蚀剂中C_（37）参数与酸产率之间的相关性
4. CD engagement of critical parameters in chemically amplified resists process and advanced mask lithography using 50keV electron beam [C] . Young Mog Ham . 2005

机译：使用50keV电子束对化学放大的抗蚀剂工艺和先进的掩模光刻技术中的关键参数进行CD接合
5. Surface chemistry study of gallium arsenide wafers during chemically amplified resist patterning and resist studies with fluorescence. [D] . Lu, Bing. 2000

机译：砷化镓晶片的表面化学研究在化学放大的抗蚀剂构图过程中进行，并通过荧光进行抗蚀剂研究。
6. Trehalose Glycopolymer Resists Allow Direct Writing of Protein Patterns by Electron-Beam Lithography [O] . Erhan Bat, Juneyoung Lee, Uland Y. Lau, -1

机译：海藻糖糖醇抗性可通过电子束光刻直接写入蛋白质图案
7. Electron Beam-Induced Reactions of a Sulfonium Salt in the Solid State for Chemically Amplified Electron Beam Resists; Comparison with Photolytic Reactions. [O] . Seong-Yun Moon, Yasunari Maekawa, Masaru Yoshida 2002

机译：电子束诱导的锍盐在化学放大的电子束抗蚀剂的固态中的反应;与光解反应的比较。
8. Electron Transfer Reactivity Patterns at Chemically Modified Electrodes: Fundamentals and Application to the Optimization of Redox Recycling Amplification Systems Doctoral thesis [R] . Bergren, A. J. 2005

机译：化学修饰电极的电子转移反应模式：基础及其在氧化还原再循环扩增系统优化中的应用博士论文

Proximity Effects in a Chemically Amplified Electron Beam Resist Patterned at 100 keV

著录项

引文网络

相似文献

相关主题

期刊订阅