首页> 外文OA文献 >Hybrid cold and hot-wall chamber for fast synthesis of uniform graphene
【2h】

Hybrid cold and hot-wall chamber for fast synthesis of uniform graphene

机译:混合冷壁和热壁腔,用于快速合成均匀的石墨烯

代理获取
本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务,本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文,但由于OA文献来源多样且变更频繁,仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况,如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

摘要

We introduce a novel modality in the CVD growth of graphene which combinesthe cold-wall and hot-wall reaction chambers. This hybrid mode preserves theadvantages of a cold-wall chamber as the fast growth and low fuel consumption,but boosts the quality of the growth towards conventional CVD with hot-wallchambers. The synthesized graphene is uniform and monolayer. The electronictransport measurements shows great improvements in charge carrier mobilitycompared to graphene synthesized in a normal cold-wall reaction chamber. Ourresults promise the development of a fast and cost-efficient growth of highquality graphene, suitable for scalable industrial applications.
机译:我们在石墨烯的CVD生长中引入了一种新颖的方式,该方式结合了冷壁和热壁反应室。这种混合模式保留了冷壁腔室的优点,因为它具有快速生长和低燃料消耗的特点,但是却可以提高热壁腔室对传统CVD的生长质量。合成的石墨烯是均匀的单层。与常规冷壁反应室中合成的石墨烯相比,电子传输测量显示出电荷载流子迁移率有了很大的提高。我们的结果有望发展出适用于可扩展工业应用的高质量石墨烯的快速且经济高效的增长。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
代理获取

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号