机译:为什么4H-SiC(0001)上的多层石墨烯表现得像单层石墨烯
机译:自旋依赖性塞贝克效应以及H和F掺杂石墨烯的能带边缘处的热电参数的巨大增长,自立并沉积在4H-SiC(0001)C面上
机译:通过高温升华在C面4H-SiC上的有序多层石墨烯中的层起源去耦
机译:冷壁和热壁化学气相沉积(0001)C面基板的4H-SiC的外延生长
机译:通过中断的生长素转运,参与矮化的ABCB1(TaABCB1)基因的小麦直系同源物的分子表征。
机译:纳米角分辨光发射揭示C面SiC上的多个π带和多层石墨烯的伯纳尔堆叠
机译:依赖于自旋的塞贝克效应和热电的巨大增长 H-和F-掺杂石墨烯中带边缘的参数,自立式和 沉积在4H-siC(0001)C面上