机译:原子层沉积的SiO_2 / AI_2O_3叠层对n型掺杂黑硅的表面钝化
机译:“零电荷” SiO2 / Al2O3叠层,用于通过原子层沉积同时钝化n(+)和p(+)掺杂的硅表面
机译:等离子体沉积AlO $ _ {bm x} $ / SiN $ _ {bm x} $介电堆栈在重掺杂n型和p型硅表面钝化方面的进展
机译:原子层沉积的Al2O3 / TiO2叠层的表面钝化
机译:多晶硅太阳能电池表面和整体钝化的掺杂依赖性。
机译:使用Al2O3势垒层控制原子层沉积的Al2O3 / La2O3 / Al2O3栅堆叠中的硅扩散控制
机译:零电荷的SiO2 / Al2O3叠层,用于通过原子层沉积同时钝化n +和p +掺杂的硅表面