机译:Role of siNx Barrier Layer on the performances of polyimide Ga2O3-doped ZnO p-i-n Hydrogenated amorphous silicon Thin Film solar Cells
机译:SiN x sub>阻挡层对掺杂聚酰亚胺Ga 2 sub> O 3 sub>掺杂的ZnO p-i-n氢化非晶硅薄膜太阳能电池性能的影响
机译:p-i-n非晶硅薄膜太阳能电池结构中透明导电氧化物与氢化p型非晶碳化硅层的界面特性分析
机译:用于半透明太阳能电池的所有p-i-n氢化非晶硅氧化薄膜太阳能电池
机译:逐层制备硼掺杂氢化纳米晶硅薄膜及其在n-i-p柔性非晶硅薄膜太阳能电池中的应用
机译:氢化非晶硅基p-i-n太阳能电池结构性能和稳定性的提高。
机译:SiNx阻挡层对聚酰亚胺Ga2O3掺杂的ZnO p-i-n氢化非晶硅薄膜太阳能电池性能的影响
机译:siNx阻挡层对聚酰亚胺Ga2O3掺杂ZnO p-i-n氢化非晶硅薄膜太阳能电池性能的影响
机译:离子镀技术制备氢化非晶硅薄膜和薄膜太阳能电池的制备与表征。最终报告,1979年1月1日至1980年5月31日