机译:SixNy在GaN底层上的生长演变及其对GaN-on-Si(111)异质外延质量的影响
机译:SixNy中间层对通过MOCVD在Si(111)衬底上生长的GaN外延层质量的影响
机译:生长前衬底氮化对ECR-MBE在Si(001)和Si(111)衬底上生长的GaN异质外延层初始生长过程的影响
机译:在200 mm Si(111)衬底上使用AlGaN / GaN HEMT进行异质外延生长和功率器件
机译:通过选择性地区MOCVD生长的异膜厚GaN层和垂直大功率器件
机译:铁磁MnSb(0001)的异质外延生长Ge / Si(111)虚拟电影基材
机译:用半经验方法研究pd在Cu(111)上的pd,Ni(111)上的pd,pd(111)上的Ni和pd(111)上的Cu的异质外延生长
机译:利用Ga金属缓冲层改善异质外延mBE GaN生长