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机译:利用聚合物自洽场理论模拟增强嵌段共聚物光刻的潜力
Mickiewicz R.A.; Yang J.K.W.; Hannon A.F.; Jung Y.-S.; Alexander-Katz A.; Berggren K.K.; Ross C.A.;
机译:利用聚合物自洽场论模拟增强嵌段共聚物光刻的潜力
机译:两亲性ABC星型三嵌段共聚物及其与AB二嵌段共聚物在溶液中的共混物的自组装:自洽场论模拟
机译:自相容场理论和蒙特卡洛模拟研究强不对称A-B-A三嵌段共聚物熔体的双重自组装
机译:基于自洽场理论的半球形双嵌段共聚物/纳米复合材料的相行为
机译:块聚合物的自组装:自洽场理论和蒙特卡罗模拟
机译:球形约束下ABC线性三嵌段共聚物的表面诱导纳米结构和相图:自洽场理论模拟
机译:用聚合物自洽场理论模拟增强嵌段共聚物光刻的潜力
机译:基于高含量丁二烯基和混合物的弹性嵌段共聚物的组合物,“本发明涉及由橡胶性质的聚合物组成的物质组合物,所述聚合物选自由以下组成的组:高嵌段共聚物。高乙烯基共聚物的高含量共聚物II高反共聚物和高乙烯基聚合物的混合物,以及III高乙烯基高反聚物共聚物,高反共聚物和高乙烯基聚合物的嵌段共聚物的组合或混合物a.-其中高反式含量的共聚物是丁二烯-1,3共聚物,并且至少一种选自苯乙烯和异戊二烯的可共聚单体的玻璃态转变温度小于约75-85。在丁二烯链段中,反式单元的百分数为反式单元,乙烯基单元的百分数不超过约8%,并且占组合物重量的约25%至80%。
机译:光刻术用嵌段共聚物光刻术用嵌段共聚物
机译:由于增加嵌段共聚物的乙烯基含量,降低了聚合物溶液的粘度,从而提高了嵌段共聚物的加氢催化剂去除率
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