机译:用于中子检测的邻位碳硼烷碳化硼薄膜的热线化学气相沉积(HWCVD)
机译:用于中子检测的邻位碳硼烷碳化硼薄膜的热线化学气相沉积(HWCVD)
机译:磁控溅射碳化硼制备单层和多层氮化硼和碳化硼薄膜的合成与表征
机译:用邻碳硼烷和三甲基硼前体沉积a-C / B膜
机译:Closo-Carbane的光致碎裂过程和过渡金属掺杂的半导体碳化硼薄膜的局部结构。
机译:脉冲等离子体化学气相沉积法制备纳米多孔非晶碳化硼薄膜的摩擦学和热稳定性研究
机译:硼烷等离子体增强化学气相沉积制备碳化硼薄膜的表征
机译:过渡金属促进的氢化硼反应。 7.铂(II)溴化物催化的笼型生长和乙硼烷与小多面体碳硼烷和硼烷的脱氢偶联反应:合成新的arachno Carborane,5,6-C2B6H12和乙硼烷偶联化合物2:1',2' - ( 1,6-C2B4H5)(B2H5)和2:1',2' - (B5H8)(B2H5)。