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Very high-density (23 fF/μm2) RF MIM capacitors using high-κ TaTiO as the dielectric

机译:使用高κTaTiO作为电介质的超高密度(23 fF /μm2)RF MIM电容器

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摘要

[[abstract]]A very high density of 23 fF/μm2 has been measured in RF metal-insulator-metal (MIM) capacitors which use high-κ TaTiO as the dielectric. In addition, the devices show a small reduction of 1.8% in the capacitance, from 100 kHz to 10 GHz. Together with these characteristics the MIM capacitors show low leakage currents and a small voltage-dependence of capacitance at 1 GHz. These TaTiO MIM capacitors should be useful for precision RF circuits.
机译:[[摘要]在使用高κTaTiO作为电介质的RF金属-绝缘体-金属(MIM)电容器中,测得的密度非常高,为23 fF /μm2。此外,从100 kHz到10 GHz,这些器件的电容略有降低1.8%。结合这些特性,MIM电容器在1 GHz时表现出低泄漏电流和较小的电容电压依赖性。这些TaTiO MIM电容器应可用于精密RF电路。

著录项

  • 作者

    Chiang K.C.;

  • 作者单位
  • 年度 2011
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 [[iso]]en
  • 中图分类

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