机译:结合氢氧化钾和氢氧化四甲基铵蚀刻进行硅表面纹理化
机译:化学预处理对四甲基氢氧化铵溶液中p(100)Si蚀刻工艺的影响
机译:通过扫描探针氧化和各向异性湿法刻蚀制备硅基多层纳米结构
机译:使用四甲基氢氧化铵的硅蚀刻研究
机译:在四甲基氢氧化铵中各向异性刻蚀硅的实验研究和建模。
机译:氢氧化四甲铵/异丙醇湿法刻蚀对AFM光刻制备的硅纳米线的几何形状和表面粗糙度的影响
机译:四甲基氢氧化铵/异丙醇湿蚀刻对aFm光刻制备的硅纳米线几何形状和表面粗糙度的影响
机译:用于红外像素阵列的四甲基氢氧化铵(TmaH)优先蚀刻