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【2h】

High-Performance MIM Capacitors Using a High-k TiZrO Dielectric

机译:使用高k TiZrO电介质的高性能MIM电容器

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摘要

[[abstract]]We have fabricated high- Ni/TiZrO/TaN metal–insulator–metal (MIM) capacitors. A low leakage current of 3.3×10−8 A/cm2 at −1 V was obtained for a 18 fF/µm2 capacitance density. For a 5.5 fF/µm2 capacitance density device, a small voltage coefficient of capacitance of 105 ppm/V2 and temperature coefficient of capacitance of 156 ppm/°C were measured.
机译:[[摘要]]我们制造了高Ni / TiZrO / TaN金属-绝缘体-金属(MIM)电容器。对于18 fF / µm2的电容密度,在-1 V时可获得3.3×10-8 A / cm2的低泄漏电流。对于5.5 fF / µm2的电容密度器件,测得的电容电压系数小,为105 ppm / V2,温度电容系数为156 ppm /°C。

著录项

  • 作者

    C-H Cheng;

  • 作者单位
  • 年度 2012
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 [[iso]]en
  • 中图分类

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