机译:Nb掺杂对高耐疲劳性(Pb0.8Ba0.2)ZrO3薄膜的铁电存储应用的影响
机译:用于非易失性存储应用的Cr掺杂BiFeO3铁电薄膜的物理和电气特性
机译:Nb含量对Nb / Nd-Co-掺杂Bi4Ti3O12薄膜铁电和介电性能的影响
机译:高取向La掺杂(K,Na)NbO3铁电薄膜
机译:用于固态非易失性随机存取存储器应用的铁电聚合物薄膜。
机译:理想原子层沉积Al2O3隧道开关层改善了掺Mg的LiNbO3薄膜的铁电性能
机译:高取向La掺杂(K,Na)NbO3铁电薄膜的生长和物理性质
机译:a-sITE-aND /或B-sITE-mODIFIED pBZRTIO3材料和(pB,sR,Ca,Ba,mG)(ZR,TI,NB,Ta)O3薄膜,具有铁电随机存取存储器和高性能薄膜微处理器的实用性