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Microstructure and Resistivity of Laser-Annealed Au-Ge Ohmic Contacts on GaAs

机译:GaAs上激光退火Au-Ge欧姆接触的微观结构和电阻率

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摘要

[[abstract]]The results of a study of laser-annealed Au-Ge ohmic contacts to GaAs arepresented. The specific contact resistivity was observed to decrease with increasinglaser energy density while the grain size of the polycrystalline microstructure(as observed by transmission electron microscopy) increased. Athigher energy densities, both parameters were found to remain constant withinthe experimental conditions used. Transmission electron micrographs, andsputtering Auger electron spectroscopic data showing Ga, As, and Ge redistributionwithin the Au-Ge film are also presented.
机译:[[摘要]]给出了与GaAs进行激光退火的Au-Ge欧姆接触的研究结果。观察到比接触电阻率随激光能量密度的增加而降低,而多晶微结构的晶粒尺寸(通过透射电子显微镜观察)则增加。在较高的能量密度下,发现两个参数在使用的实验条件下保持恒定。还展示了透射电子显微照片和溅射俄歇电子能谱数据,它们显示了Au-Ge膜中Ga,As和Ge的重新分布。

著录项

  • 作者

    O. Aina;

  • 作者单位
  • 年度 2012
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 [[iso]]en
  • 中图分类

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