机译:基于4H-SiC基于半导体器件的瞬态过程模拟(考虑到Silvaco TCAD软件包的掺杂剂不完全电离)
机译:硅半导体器件双镶嵌制造工艺中电镀铜和溅射铜之间回流特性差异的研究
机译:硅半导体器件双镶嵌制造工艺中电镀铜和溅射铜之间回流特性差异的研究
机译:使用常规半导体工艺制造真空微电子器件的开发进展
机译:互补金属氧化物半导体兼容器件的化学机械抛光和旋涂介电层间介电层的研究
机译:束缚叔胺作为可溶液加工的有机半导体的固态n型掺杂剂
机译:用于硅器件的N型自旋掺杂剂的开发
机译:先进的加工和表征技术。半导体光电器件和集成电路的制造和表征于1991年5月8日至10日在佛罗里达州克利尔沃特举行。美国真空学会系列10