首页> 外文OA文献 >PENGARUH VARIASI SPACER TERHADAP KUALITAS KRISTAL LAPISAN TIPIS Sn(Se0,6Te0,4) DENGAN TEKNIK EVAPORASI VAKUM
【2h】

PENGARUH VARIASI SPACER TERHADAP KUALITAS KRISTAL LAPISAN TIPIS Sn(Se0,6Te0,4) DENGAN TEKNIK EVAPORASI VAKUM

机译:真空蒸发技术对间隔变化对sN(T0.6TE0.4型)晶体质量的影响

代理获取
本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务,本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文,但由于OA文献来源多样且变更频繁,仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况,如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

摘要

Penelitian ini bertujuan untuk mengetahui pengaruh spacer terhadap kualitas lapisan tipis Sn(Se0,6Te0,4) dan karakteristik kristal lapisan tipis Sn(Se0,6Te0,4) yang dihasilkan melalui teknik evaporasi vakum.udTeknik evaporasi vakum digunakan pada proses penumbuhan lapisan tipis Sn(Se0,6Te0,4) dengan tekanan 10-5 mbar. Variasi spacer pada evaporator sebesar 10 cm, 15 cm, dan 25 cm diterapkan pada proses penumbuhan lapisan tipis Sn(Se0,6Te0,4). Lapisan tipis Sn(Se0,6Te0,4) yang diperoleh dikarakterisasi menggunakan XRD (X-Ray Diffraction) untuk mengetahui struktur kristal dan parameter kisi, SEM (Scanning Electron Microscopy) untuk mengetahui morfologi permukaaan dan EDAX (Energi Dispersive Analysis X-Ray) untuk mengetahui komposisi kimia lapisan tipis Sn(Se0,6Te0,4).udHasil yang diperoleh memperlihatkan sampel memiliki struktur kristal orthorombik, dengan nilai parameter kisi sebagai berikut: variasi spacer 10 cm a=11,89Å, b= 4,52Å, c= 4,4Å; variasi spacer 15 cm, a= 11,89Å, b=4,29Å, c= 4,51Å; dan variasi spacer 25 cm, a=11,62Å, b= 4,57Å, c= 4,64Å. Diameter rata-rata partikel pada koordinat kanan kiri dan atas bawah untuk spacer 10 cm adalah 0,1306 m m. Pada koordinat kanan kiri dan atas bawah untuk spacer 15 cm adalah 0,1336 dan m. Perbandingan presentase atom dan perbandingan molaritas untuk spacer 10 cm adalah Sn = 53,68 %, Se = 33,65%, Te = 12,67% dan 1: 0,62: 0,23. Perbandingan presentase atom dan perbandingan molaritas untuk spacer 15 cm adalah Sn = 52.02 %, Se = 33,91 %, Te = 14.07% dan 1: 0,65: 0,27. Hasil tersebut dapat disimpulkan bahwa variasi spacer mempengaruhi kualitas kristal yang terbentuk. Semakin dekat spacer maka kualitas kristalnya semakin baik, karena kemungkinan bahan terdeposisi pada substrat semakin tinggi.
机译:本研究旨在确定隔离物对Sn(Se0,6Te0.4)薄膜质量的影响以及通过真空蒸发技术生产的Sn(Se0.6Te0.4)薄膜晶体的特性。Ud真空蒸发技术用于生长Sn膜的过程。 (Se0.6Te0.4),压力为10-5毫巴。蒸发器上间隔物的变化分别为10 cm,15 cm和25 cm,用于生长Sn(Se0,6Te0.4)薄膜的过程。使用XRD(X射线衍射)表征获得的Sn(Se0,6Te0.4)薄膜,以确定晶体结构和晶格参数,SEM(扫描电子显微镜)表征表面形貌,EDAX(能量色散分析X射线)表征知道薄膜Sn(Se0,6Te0,4)的化学成分。获得的结果表明该样品具有正交晶体结构,其晶格参数值如下:间隔物变化10 cm a =11.89Å,b =4.52Å,c = 4,4Å;间隔物变化为15厘米,a =11.89Å,b =4.29Å,c =4,51Å;和25 cm的垫片间距,a =11.62Å,b =4.57Å,c =4.64Å。对于10 cm的垫片,在右下和左下坐标处的粒子平均直径为0.1306 m m。 15厘米间隔的左右坐标分别为0.1336和m。 10cm间隔物的原子百分比和摩尔比的比较为Sn = 53.68%,Se = 33.65%,Te = 12.67%和1:0.62:0.23。 15cm间隔物的原子百分比和摩尔比的比较是Sn = 52.02%,Se = 33.91%,Te = 14.007%和1∶0.65∶0.27。这些结果可以得出结论,间隔物的变化会影响所形成晶体的质量。间隔物越近,晶体质量越好,因为在基板上沉积材料的可能性更高。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号