首页> 外文OA文献 >Sifat Optik Film Tipis Galium OksidaudDengan Doping Eu (5)
【2h】

Sifat Optik Film Tipis Galium OksidaudDengan Doping Eu (5)

机译:薄膜氧化镓的光学特性掺杂Eu(5%)

代理获取
本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务,本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文,但由于OA文献来源多样且变更频繁,仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况,如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

摘要

Dalam penelitian ini, telah dikaji sifat optic film tipis Ga2 O3:Eu (5%) yangudditumbuhkan dengan menggunakan reaktor DC unbalanced magnetron sputtering (home made).udDari hasil karakterisasi UV-nir, dapat ditunjukkan bahwa kehadiran doping Eu (5%) telahudmenurunkan reflektansi film. Kondisi ini sesuai dengan citra SEM, yang menunjukkan bahwa filmuddengan doping Eu (5%) mempunyai struktur morfologi yang kasar. Dari hasil karakterisasi denganudUV-nir juga diperoleh optical bandgap film Ga2O3 sebesar 3,4 eV dan tidak dipengaruhi olehudkehadiran doping Eu(5%). Kehadiran Eu(5%) pada Ga2O3 telah meningkatkan intensitasudfotoluminisensi tetapi tidak berpengaruh secara signifikan pada puncak spektrum fotoluminisensudfilm Ga2O3 (~600 nm).udKata kunci: Ga2 O3 , Ga2O3:Eu(5%), dc magnetron sputtering, fotoluminisensi
机译:在这项研究中,使用不平衡磁控溅射(自制)DC反应器生长了Ga2 O3:Eu(5%)薄膜的光学特性,从紫外-nir表征结果可以证明存在Eu掺杂(5%) )的胶片反射率降低。该条件与SEM图像一致,其表明Eu掺杂膜(5%)具有粗糙的形态结构。从用udUV-nir表征的结果还获得了3.4 eV的光学带隙Ga2O3薄膜,不受掺杂Eu(5%)的影响。 Ga2O3上Eu(5%)的存在增加了udfotolumin许可的强度,但对光致发光光谱Ga2O3(〜600 nm)的峰没有显着影响。照片许可

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号