机译:低压化学气相沉积法在多晶PtRh_(20)合金箔上生长的高质量石墨烯及其电传输性能
机译:低压化学汽相沉积铝化铁涂层的动力学模型-第一部分。沉积动力学
机译:焦碳化学气相沉积的化学和动力学-VIII。低压下甲烷中的碳沉积
机译:使用低压化学气相沉积(LPCVD)的高质量掺杂多晶硅(LPCVD)
机译:大气压微波等离子体辅助金刚石化学气相沉积中气相的化学动力学计算。
机译:单层石墨烯的部分压力辅助生长由低压化学气相沉积种植:对高性能石墨烯FET器件
机译:中低压化学气相沉积多晶硅动力学参数的提取
机译:用于低成本太阳能电池的薄膜多晶硅的化学气相沉积。 1980年2月2日至1980年5月2日第三季度技术进步报告