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Propiedades ópticas- estructurales y morfológicas de aleaciones ternarias de Ga1-xAsMnx crecidas por Magnetrón Sputtering

机译:磁控溅射制备Ga1-xasmnx三元合金的光学结构和形貌特征

摘要

En este trabajo de tesis, se estudió el crecimiento por la técnica de R.F MagnetrónudSputtering de materiales semiconductores Ga1-xMnxAs, conocidos como semiconductoresudsemimagnéticos o semiconductores magnéticos diluidos (Diluted MagneticudSemiconductors-DMS). Para la investigación se fabricó un conjunto de películas de:udGaAs/GaAs(100), Mn/GaAs(100) y aleaciones ternarias de GaAsMn/GaAs(100),uddepositadas sobre sustratos de GaAs y vidrio corning, con el propósito de estudiar susudpropiedades ópticas, estructurales y morfológicas y correlacionarlos con las condiciones deudcrecimiento. Adicional al objetivo general de este trabajo de tesis, en la última parte de esteudtrabajo se presenta el anexo-A correspondiente al análisis estructural, óptico y morfológicoudde multicapas de GaAs/Mn fabricadas por la técnica de magnetrón sputtering depositadasudsobre sustratos de GaAs (100) y vidrio Corning. Las propiedades físicas de las películas deudGa1-xMnxAs fueron analizadas en función de la temperatura de crecimiento, mientras queudlas multicapas de GaAs/Mn se analizaron en función del tiempo de deposición. En lasudpelículas de Ga1-xMnxAs se encontró que el ancho de banda prohibido (gap) presenta unudcorrimiento hacia longitudes de onda del azul con relación a la matriz de GaAs, que seudpuede controlar mediante la temperatura de crecimiento. Por otro lado, se observó que losudvalores del gap medidos para las películas de GaAsMn a) y c) presentaron una variación noudlineal (disminuyó) entre 2.23 a 2.21 eV con el aumento de la temperatura de crecimientoudy/o la concentración de Mn. Por Microscopía de Fuerza Atómica (AFM), se estimó que laudrugosidad promedio y el tamaño de grano de las películas de GaMnAs, disminuyó con lasudcondiciones de crecimiento. Estudios por espectroscopía Raman en las películas deudGaAsMn y en las multicapas de GaAs/Mn, nos permitió determinar nuevos modosudvibracionales relacionados a clusters de MnmAsn que no han sido reportados en la literaturaudsiendo un aporte importante de este trabajo de tesis. Cálculos teóricos de estos modosudvibracionales utilizando el modelo de masa reducida nos permitió determinar que losudvalores teóricos están en buen acuerdo con los valores experimentales. / Abstract. In this thesis, we studied the growth by RF magnetron sputtering technique of Ga1-xMnxAsudsemiconductors materials, known as semiconductors semimagnetics or Diluted MagneticudSemiconductors (Diluted Magnetic Semiconductors-DMS). For this research produced a setudof films: GaAs/GaAs (100), Mn/GaAs (100) and ternary alloys GaAsMn/ GaAs (100),uddeposited on GaAs substrates and Corning Glass, with the purpose of studying their opticaludproperties, structural and morphological and correlation with growth conditions. In additionudto the overall objective of this thesis, in the latter part of this work, presents the Annex-Audfor the structural analysis, optical and morphological multilayer GaAs/Mn produced by theudtechnique of magnetron sputtering deposited on substrates of GaAs (100) and Corningudglass. The physical properties of Ga1-xMnxAs films were analyzed as a function of growthudtemperature, while the multi-layer GaAs / Mn were analyzed as a function of depositionudtime. In the films of Ga1-xMnxAs found that the width of forbidden band (gap) shows a shiftudto blue wavelengths relative to the GaAs matrix, which can be controlled by growthudtemperature. On the other hand, it was observed that the gap values measured for filmsudGaAsMn a) and c) showed a nonlinear variation (decrease) from 2.23 to 2.21 eV withudincreasing growth temperature and/or concentration of Mn. By Atomic Force Microscopyud(AFM), it was estimated that the average roughness and grain size of GaMnAs filmsuddecreased with the growth conditions. Raman spectroscopy studies on GaAsMn films andudmultilayers of GaAs/Mn, allowed us to determine new vibrational modes related to MnmAsnudclusters that have not been reported in the literature to being an important contribution ofudthis thesis. Theoretical calculations of these vibrational modes using the reduced massudmodel allowed us to determine that the theoretical values are in good agreement withudexperimental values.
机译:在这篇论文中,研究了通过射频磁控溅射法生长的Ga1-xMnxAs半导体材料,即稀磁 udSemiconductors-DMS。为了进行研究,制作了一组薄膜:udGaAs / GaAs(100),Mn / GaAs(100)和GaAsMn / GaAs(100)的三元合金,ud沉积在GaAs和康宁玻璃基板上,用于研究它们的光学,结构和形态特性,并将其与生长条件相关联。除了本论文工作的总体目标之外,在本工作的最后一部分中,还提出了附件-A,该附件对应于通过溅射磁控管技术沉积的砷化镓/砷化镓衬底制造的GaAs / Mn多层膜的结构,光学和形态分析GaAs(100)和康宁玻璃。分析了deGa1-xMnxAs薄膜的物理性能与生长温度的关系,而分析了AsGaAs / Mn多层膜与沉积时间的关系。在Ga1-xMnxAs薄膜中,发现带宽“间隙”相对于GaAs基体向蓝光波长偏移,这可以通过生长温度来控制。另一方面,观察到随着生长温度ud和/或浓度的增加,GaAsMn膜a)和c)的间隙的值在2.23至2.21 eV之间呈现非线性变化(减小)。从锰。通过原子力显微镜(AFM),估计GaMnAs薄膜的平均粗糙度和晶粒尺寸随生长条件而降低。用拉曼光谱法对udGaAsMn薄膜和GaAs / Mn多层膜进行的研究,使我们能够确定与MnmAsn团簇有关的新的的,在文献中尚未报道的的新的振动模式,这是本文工作的重要贡献。使用减重模型对这些振动模式进行理论计算,使我们能够确定理论值与实验值非常吻合。 /摘要。在本文中,我们研究了通过RF磁控溅射技术生长的Ga1-xMnxAs udsemiconductors材料,即半导体半磁性或Digested Magnetic udSemiconductor(稀磁半导体-DMS)。为进行这项研究,制作了一组 udud膜:GaAs / GaAs(100),Mn / GaAs(100)和三元合金GaAsMn / GaAs(100),沉积在GaAs基板和康宁玻璃上,目的是研究它们的光学特性。 udproperties,结构和形态以及与生长条件的关系。除了本文的总体目标外,在本工作的后半部分,还提供了附件-A ud,用于结构分析,由沉积在GaAs衬底上的磁控溅射技术产生的光学和形态多层GaAs / Mn。 (100)和康宁 udglass。分析了Ga1-xMnxAs薄膜的物理性能与生长温度的关系,而分析了多层GaAs / Mn与沉积时间的关系。在Ga1-xMnxAs薄膜中,发现禁带宽度(间隙)相对于GaAs基体显示出蓝移的波长,这可以通过生长温度来控制。另一方面,观察到的是,随着生长温度和/或Mn浓度的升高,薄膜udGaAsMn a)和c)的间隙值在2.23至2.21 eV之间显示出非线性变化(减小)。通过原子力显微镜(AFM),估计GaMnAs薄膜的平均粗糙度和晶粒尺寸随生长条件而降低。对GaAsMn薄膜和GaAs / Mn多层膜的拉曼光谱研究使我们能够确定与MnmAsn簇相关的新振动模式,而在文献中尚未报道这是本论文的重要贡献。使用减质量 ud模型对这些振动模式进行的理论计算使我们能够确定理论值与 u实验值具有很好的一致性。

著录项

  • 作者单位
  • 年度 2010
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