首页> 外文OA文献 >“Adsorción y difusión de metales de transición 3d sobre la superficie (0001)GaN. Estudio mediante DFT” / “Adsorption and diffusion of 3d transition metals on the GaN(0001) surface. A DFT study”
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“Adsorción y difusión de metales de transición 3d sobre la superficie (0001)GaN. Estudio mediante DFT” / “Adsorption and diffusion of 3d transition metals on the GaN(0001) surface. A DFT study”

机译:“3d过渡金属在表面(0001)GaN上的吸附和扩散。研究使用DFT“/”在GaN(0001)表面上吸附和扩散3d过渡金属。 DFT研究“

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摘要

En el presente trabajo de tesis doctoral se realizó un estudio detallado de los procesos de adsorción y difusión de átomos de metales de transición 3d (MT), en particular V, Ni y Fe, sobre la superficie (0001)GaN, a partir de cálculos basados el formalismo de la teoría del funcional de la densidad (DFT) y la aproximación del pseudopotencial. Además, se investigó el efecto del cubrimiento e incorporación de estos elementos, para diferentes concentraciones y configuraciones, en las propiedades estructurales y electrónicas de la superficie (0001)GaN. Con base en estos resultados fue posible identificar los mecanismos microscópicos que afectan a la morfología de la superficie y la eficiencia del dopaje con metales de transición 3d en diferentes condiciones de crecimiento.udEl estudio inicia con una descripción del nitruro de galio (GaN) en la fase de cristalización hexagonal, junto con las propiedades estructurales y electrónicas más relevantes de la superficie limpia (0001)GaN y sus reconstrucciones más favorables energéticamente. Posteriormente, se presentan los resultados para la adsorción e incorporación de átomos de metales de transición 3d, en particular V, Ni y Fe, sobre la superficie (0001)GaN, en diferentes concentraciones y configuraciones. La comparación de la estabilidad relativa de las posibles estructuras de los adsorbatos del MT sobre la superficie (0001)GaN, sugieren que la incorporación del adsorbato es más favorable en condiciones ricas en nitrógeno para elementos como Ti, V y Mn. Mientras que la adsorción y formación de monocapas metálicas sobre la superficie (0001)GaN es más favorable para elementos como Fe, Co y Ni, en condiciones ricas en galio. La investigación realizada en el presente trabajo proporciona una imagen cualitativa muy importante en cuanto a las condiciones de crecimiento apropiadas para la fabricación de posibles contactos metálicos y heteroestructuras magnéticas, a partir del crecimiento de metales de transición 3d sobre la superficie (0001)GaN. / Abstract: In this thesis, we perform first-principles spin-polarized calculations in order to study the adsorption and diffusion of 3d transition-metals, in particular V, Ni and Fe, atoms on the GaN(0001) surface, using density functional theory (DFT) within a plane-wave ultrasoft pseudopotential scheme. We focus on the technologically most relevant GaN(0001) surface, which is the polarity observed during metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) of GaN on sapphire as well as molecular beam epitaxy (MBE) on Si-face SiC. In addition, we have investigated the effects of the surface coverage and incorporation of these elements on the structural and electronic properties of the GaN(0001) surface. Based on these results, we analyze the main features of the microscopic mechanisms that undoubtedly affect the surface morphology and the efficiency of transition-metal doped GaN in different growth conditions.udThe first part of the thesis, we focus on studying the properties of the bulk gallium nitride (GaN) semiconductor. Furthermore, we present a brief description of the most relevant structural and electronic characteristics of the clean GaN(0001) surface and their more stable reconstructions. Subsequently, we present the results for the vanadium, nickel and iron adsorption and incorporation on the GaN(0001) surface, in different concentrations and configurations. A comparative study of the relative surface energy of 3d transition-metals on the GaN(0001) surface, suggests that incorporation of the Ti, V, Mn elements in the Ga-substitutional site is energetically more favorable in a nitrogen-rich environment, as experimental results have shown. While that the metal layer-by-layer adsorption is more favorable for elements such as Fe, Co and Ni, under gallium-rich conditions. Our efforts in this work provides an important qualitative picture of the appropriate environmental conditions for the growth of 3d transition-metal contacts and magnetic heterostructures on the GaN(0001) surface.
机译:在此博士论文中,通过计算对3d过渡金属原子(MT)尤其是V,Ni和Fe在表面(0001)GaN上的吸附和扩散过程进行了详细研究。基于密度泛函理论(DFT)的形式主义和伪势近似。另外,研究了对于不同的浓度和构造,覆盖和掺入这些元素对(0001)GaN表面的结构和电子性能的影响。根据这些结果,可以确定影响表面形态和在不同生长条件下掺杂3d过渡金属的效率的微观机理,该研究从描述氮化镓(GaN)开始。六方晶化阶段,以及清洁表面(0001)GaN的最相关的结构和电子特性及其最节能的重构。随后,在(0001)GaN表面上以不同的浓度和构型呈现了3d过渡金属原子(特别是V,Ni和Fe)的吸附和结合结果。比较MT吸附物在(0001)GaN表面上可能结构的相对稳定性,表明在元素如Ti,V和Mn的富氮条件下,吸附物的掺入更为有利。尽管在富含镓的条件下,在(0001)GaN表面上金属单层的吸附和形成对Fe,Co和Ni等元素更有利。在当前工作中进行的研究提供了非常重要的定性图像,说明了从(0001)GaN表面上的3d过渡金属的生长来制造可能的金属触点和磁性异质结构的适当生长条件。 /摘要:在本文中,我们使用密度泛函进行第一性原理自旋极化计算,以研究3d过渡金属,尤其是V,Ni和Fe原子在GaN(0001)表面上的吸附和扩散平面波超软伪电势方案中的理论(DFT)。我们专注于技术上最相关的GaN(0001)表面,这是在蓝宝石上GaN的金属有机化学气相沉积(MOCVD)以及在Si面SiC上的分子束外延(MBE)期间观察到的极性。此外,我们已经研究了表面覆盖率以及这些元素的掺入对GaN(0001)表面结构和电子性能的影响。基于这些结果,我们分析了在不同生长条件下无疑会影响表面形态和过渡金属掺杂GaN效率的微观机理的主要特征。体氮化镓(GaN)半导体。此外,我们简要介绍了清洁GaN(0001)表面最相关的结构和电子特性及其更稳定的重构。随后,我们介绍了不同浓度和配置下钒,镍和铁在GaN(0001)表面上的吸附和结合结果。对GaN(0001)表面上3d过渡金属的相对表面能的比较研究表明,在富氮环境中,在Ga置换位点掺入Ti,V,Mn元素在能量上更有利,因为实验结果表明。尽管在富镓条件下,金属的逐层吸附对诸如Fe,Co和Ni等元素更有利。我们在这项工作中所做的努力为GaN(0001)表面上3d过渡金属触点和磁性异质结构的生长提供了合适的环境条件的重要定性图。

著录项

  • 作者单位
  • 年度 2010
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
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  • 中图分类

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