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【2h】

Cascadic multigrid algorithm for robust inverse mask synthesis in optical lithography

机译：用于光学光刻中鲁棒逆掩模合成的Cascadic多重网格算法

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作者
Wei H; Liu S; Lv W; Lam EYM;
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年度 2014
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正文语种 eng
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专利

1. Cascadic multigrid algorithm for robust inverse mask synthesis in optical lithography [J] . Wen Lv, Edmund Y. Lam, Haiqing Wei, Journal of microanolithography, MEMS, and MOEMS . 2014,第2期

机译：用于光刻的鲁棒逆掩模合成的级联多网格算法
2. Regularized level-set-based inverse lithography algorithm for IC mask synthesis [J] . Zhen?Geng, Zheng?Shi, Xiao-lang?Yan, Journal of Zhejiang university science . 2013,第10期

机译：基于正则集的基于水平集的反光刻技术
3. Regularized level-set-based inverse lithography algorithm for IC mask synthesis [J] . Zhen GENG, Zheng SHI, Xiao-lang YAN, 浙江大学学报（英文版）（C辑：计算机与电子） . 2013,第010期

机译：基于正则集的基于水平集的反光刻技术
4. OBJECT-BASED MASK SYNTHESIS ALGORITHM USING INVERSE LITHOGRAPHY TECHNIQUE FOR 65NM-NODE TECHNOLOGY [C] . Jochen Nierentz Semiconductor Technology(ISTC2008) . 2008

机译：基于反光刻技术的65NM节点技术基于对象的面具综合算法
5. Robust mask-layout and process synthesis in micro-electro-mechanical-systems (MEMS) using genetic algorithms. [D] . Ma, Lin. 2001

机译：使用遗传算法在微机电系统（MEMS）中进行稳健的掩膜布局和过程综合。
6. Path Planning of Pattern Transfer Based on Dual-Operator and a Dual-Population Ant Colony Algorithm for Digital Mask Projection Lithography [O] . Yingzhi Wang, Tailin Han, Xu Jiang, 2020

机译：基于双算子的模式转移路径规划和数字掩模投影光刻的双群蚁群算法
7. A robust computational algorithm for inverse photomask synthesis in optical projection lithography [O] . Tang ML, Tong CS, Choy SK, 2012

机译：一种用于光学投影光刻中逆光掩模合成的鲁棒计算算法
8. Robust Multigrid Algorithms for the Incompressible Navier-Stokes Equations [R] . Montero, Ruben S., Llorente, Ignacio M. 2000

机译：不可压缩Navier-stokes方程的鲁棒多重网格算法

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