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Surface structure of epitaxial Gd(0001) films on W(110) studied by quantitative LEED analysis

机译:通过定量LEED分析研究了W(110)上外延Gd(0001)薄膜的表面结构

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摘要

The surface structure of thick (400 Å) Gd(0001) films, epitaxially grown on W(110), is investigated by low-energy electron-diffraction (LEED) IV measurements in combination with dynamical LEED calculations. A first-layer contraction of 2.4% and a second-layer spacing expansion of 1% is found. These findings are in good agreement with literature values determined for the (0001) surface of bulk Gd crystals. No significant difference in the LEED IV data is found between films grown at room temperature and films grown at elevated temperatures.
机译:通过低能电子衍射(LEED)IV测量结合动态LEED计算,研究了在W(110)上外延生长的厚(400Å)Gd(0001)厚膜的表面结构。发现第一层收缩为2.4%,第二层间距膨胀为1%。这些发现与对于块状Gd晶体的(0001)表面确定的文献值非常一致。在室温下生长的薄膜和高温下生长的薄膜之间,LEED IV数据没有发现显着差异。

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