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【2h】

CVD-Wachstum von (001) und (111) 3C-SiC Epi-Schichten und ihre Grenzflächenreaktivität mit dielektrischen Praseodymiumoxidschichten

机译：（001）和（111）3C-siC外延层的CVD生长及其与氧化镨介电层的界面反应性

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Sohal Rakesh;
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年度 2006
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