机译:过渡金属铜原子层沉积过程中前体立体化学对解离化学吸附和表面氧化还原反应影响的量子化学研究(第119卷,第5914页,2015年)
机译:过渡金属铜原子层沉积过程中前体立体化学对解离化学吸附和表面氧化还原反应影响的量子化学研究
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机译:量子点敏化的TiO2纳米管阵列的光电化学性能:原子层沉积涂层表面改性的研究
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机译:气体/金属反应的电阻弛豫研究导致同时溶解和气化。解离的氧/钽系统高于2000K。第二部分化学吸附,界面交叉和产物解吸的机理,动力学和能量学。