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【2h】

Pulsed-source MOCVD HfO2 ultrathin film growth optimized by in situ ellipsometry monitoring

机译：通过原位椭偏仪监测优化脉冲源mOCVD HfO2超薄膜生长

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作者
Tsuchiya Yoshishige; Endoh M; Oda S;
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年度 2003
总页数
原文格式 PDF
正文语种 {"code":"en","name":"English","id":9}
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