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Role of bias conditions in the hot carrier degradation of AlGaN/GaN high electron mobility transistors

机译:偏压条件在alGaN / GaN高电子迁移率晶体管热载流子退化中的作用

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摘要

The impacts of gate bias and device temperature on carrier energy distributions are reported for AlGaN/GaN High Electron Mobility Transistors. The lateral electric field and the average carrier energy are the highest at the end of gate on the gate‐drain access side. The number of high energy carriers is the greatest in the semi‐ON operating condition, with maximum energies exceeding the activation energy of defects in the AlGaN. There is a significant decrease in the number of very high energy carriers (greater than 2 eV) as the device temperature increases whereas the number of moderately energetic carriers (between 1 to 2 eV) is higher at elevated temperatures.(© 2013 WILEY‐VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim)
机译:对于AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管,报道了栅极偏置和器件温度对载流子能量分布的影响。横向电场和平均载流子能量在栅-漏通道一侧的栅末端最高。在半导通状态下,高能载流子的数量最大,最大能量超过了AlGaN中缺陷的活化能。随着设备温度的升高,非常高能级的载流子(大于2 eV)的数量显着减少,而在高温下,中等能级载流子的数量(1-2eV之间)更高(©2013 WILEY‐VCH Verlag GmbH&Co. KGaA,Weinheim)

著录项

  • 作者

    Krishna Sanjay; Plis Elena;

  • 作者单位
  • 年度 2013
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