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Remnant magnetoresistance in ferromagnetic (Ga,Mn)As nanostructures

机译:铁磁(Ga,mn)as纳米结构中的残余磁阻

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摘要

The authors show a magnetoresistive effect that appears in a lithographically shaped, three-arm nanostructure fabricated from ferromagnetic (Ga,Mn)As layers. The effect, related to a rearrangement of magnetic domain walls between different pairs of arms in the structure, is revealed as a dependence of zero-field resistance on the direction of the previously applied magnetic field. This effect could allow designing devices with unique switching and memory properties.
机译:作者展示了一种磁阻效应,这种效应出现在由铁磁(Ga,Mn)As层制成的光刻形状的三臂纳米结构中。该效应与结构中不同臂对之间磁畴壁的重新布置有关,被揭示为零场电阻与先前施加的磁场方向的相关性。这种效果可能允许设计具有独特开关和存储属性的设备。

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