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【2h】

Direct patterning of thin oxide layer of compound semiconductors by low-energy electron-beam lithography for successive selective area growth

机译：通过低能电子束光刻直接图案化化合物半导体薄氧化层，用于连续选择性区域生长

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作者
松田一宏; Kazuhiro Matsuda;
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年度 2012
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