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机译:III氮化物半导体中缺陷的电子沟道对比成像
Trager-Cowan C.; Naresh-Kumar G.; Allehiani N.; Kraeusel S.; Hourahine B.; Vespucci S.; Thomson D.; Bruckbauer J.; Kusch G.; Edwards P. R.; Martin R. W.; Mauder C.; Day A. P.; Winkelmann A.; Vilalta-Clemente A.; Wilkinson A. J.; Parbrook P. J.; Kappers M. J.; Moram M. A.; Oliver R. A.; Humphreys C. J.; Shields P.; Le Boulbar E. D.; Maneuski D.; OShea V.; Mingard K. P.;
机译:转载:III族氮化物薄膜结构的电子通道对比度成像
机译:III族氮化物薄膜结构的电子沟道对比度成像
机译:高分辨率电子通道对比成像应用案例研究-金属材料中的缺陷和缺陷排列研究
机译:电子通道对比度成像的散装半导体缺陷分析
机译:III-氮化物宽带隙半导体结构缺陷的同步X射线表征
机译:建模通过精确电子通道对比成像获得的位错对比以表征散装材料中的变形机制
机译:半导体中掺杂剂的Z-对比成像和电子通道分析
机译:自动缺陷检测和分类,用于高通量电子通道对比度成像
机译:用于半导体材料电子通道对比度成像的多束电子显微镜
机译:用于通过产生潜在的对比图像来对包含微电子部件的半导体晶片进行生产测试的方法和设备,然后分析其是否存在缺陷
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