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【2h】

Low temperature plasma-enhanced ALD of vanadium nitride as copper diffusion barrier

机译：低温等离子体增强的氮化钒aLD作为铜扩散阻挡层

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Rampelberg Geert; Devloo-Casier Kilian; Deduytsche Davy; Schaekers Marc; Blasco Nicolas; Detavernier Christophe;
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年度 2013
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正文语种 eng
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