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【2h】

Nanopatterning of silicon surfaces by low-energy ion-beam sputtering: dependence on the angle of ion incidence

机译：通过低能离子束溅射对硅表面进行纳米图案化：依赖于离子入射角

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5 pages, 3 figures.-- PACS nrs.: 81.16.Rf, 81.65.Cf, 68.35.B-, 68.37.Lp, 68.37.Ps, 68.47.Fg.

机译：5页，3个数字。-PACS编号：81.16.Rf，81.65.Cf，68.35.B-，68.37.Lp，68.37.Ps，68.47.Fg.

著录项

作者
Gago Raúl; Vázquez Luis; Cuerno Rodolfo; Varela María; Ballesteros Carmen; Albella José María;
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作者单位

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年度 2002
总页数
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正文语种 eng
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