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【2h】

Analysis of Scratches Formed on Oxide Surface during Chemical Mechanical Planarization

机译：化学机械平面化过程中氧化物表面划痕的分析

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Jae-gon Choi; Y. Nagendra Prasad; In-kwon Kim; In-gon Kim; Woo-jin Kim; C Y. Nagendra Prasad; A In-kwon Kim; A In-gon Kim;
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年度 2009
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