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机译:光学光刻中相移面罩设计的反像问题
Stanley H. Chan; Edmund Y. Lam;
机译:用于提高光刻中图像分辨率的相移掩模的设计
机译:高级光学光刻中减毒相移掩模的三维掩模效应研究
机译:相移掩膜偏振法:使用相移掩膜监测193 nm高数值孔径的偏振和浸没式光刻
机译:光学光刻中设计阶段移位面罩的逆图像问题
机译:用于相移掩模设计的广义逆光刻方法。
机译:在相位对比成像理想观察者信号探测的分析采用线性移位不变光学系统
机译:光学光刻中相移掩模设计的逆图像问题
机译:使用光学光刻和相移掩模制造的红外频率选择表面
机译:用于半导体芯片制造的光刻工艺,包括通过修整掩模暴露光致抗蚀剂层,以帮助暴露由相移掩模的相移器定义的特征之间的空间
机译:使用这种相移掩模的相移掩模及其生产以及光学光刻技术
机译:设计和制造相移掩模的方法以及设计相移掩模的装置
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