首页> 外文OA文献 >Plasma Cleaning for W Polymetal Gate

【2h】

Plasma Cleaning for W Polymetal Gate

机译：W多金属浇口的等离子清洗

页面导航

著录项
引文网络
相似文献
相关主题

著录项

作者
Alex Kabansky; Harry Lee;
展开▼
作者单位

展开▼
年度 2015
总页数
原文格式 PDF
正文语种
中图分类

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. Plasma Cleaning for W Polymetal Gate [J] . Alex Kabansky, Harry Lee Diffusion and Defect Data. Solid State Data, Part B. Solid State Phenomena . 2005,第0期

机译：W多金属门的等离子清洗
2. Influence of Hydrogen Incorporation on the Reliability of Gate Oxide Formed by Using Low-Temperature Plasma Selective Oxidation Applicable to Sub-50-nm W-Polymetal Gate Devices [J] . Lim K.-Y., Sung M.-G., Cho H.-J., IEEE Electron Device Letters . 2008,第4期

机译：氢掺入对适用于50nm以下W型多金属栅极器件的低温等离子体选择性氧化形成的栅极氧化物可靠性的影响
3. Post-Cleaning Effect on a HfO2 Gate Stack Using a NF3/NH3 Plasma [J] . Lee Min-Seon, Oh Hoon-Jung, Lee Joo-Hee, Journal of nanoscience and nanotechnology . 2016,第5期

机译：使用NF3 / NH3等离子体对HfO2栅堆叠的清洗后效果
4. Plasma Cleaning for W Polymetal Gate [C] . Alex Kabansky, Harry Lee, RENA, International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces . 2005

机译：适用于W多种栅极的等离子体清洁
5. Development of plasma cleaning and plasma enhanced close space sublimation hardware for improving CdS/CdTe solar cells. [D] . Swanson, Drew. 2012

机译：等离子体清洁和等离子体增强的近距离升华硬件的开发，用于改善CdS / CdTe太阳能电池。
6. A Quantum–Mechanical Study of Clean and Cr–Segregated Antiphase Boundaries in Fe3Al [O] . Martin Friák, Monika Všianská, Mojmír Šob 2019

机译：Fe3Al中纯净且Cr隔离的反相边界的量子力学研究
7. Influence of plasma-based in-situ surface cleaning procedures on HfO2/In0.53Ga0.47As gate stack properties [O] . Varistha Chobpattana, Thomas E. Mates, William J. Mitchell, 2013

机译：基于等离子体的原位表面清洁程序对HFO2 / IN0.53GA0.47AS栅极堆叠性能的影响

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

客服微信
服务号