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Improving lithographic masks with the assistance of indentations

机译：借助压痕改善平版印刷掩模

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1. Improving lithographic masks with the assistance of indentations [J] . Guo Ying-Nan, Li Xu-Feng, Pan Shi, 中国物理：英文版 . 2012,第005期

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2. Lithographic mask defects mitigation on a multimode interference structure [J] . P. Louren?o, A. Fantoni, J. Costa, Optica pura y aplicada . 2020,第3期

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4. 'Smart' source, mask, and target co-optimization to improve design related lithographically weak spots [C] . No-Young Chung, Pil-Soo Kang, Na-Rae Bang, Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability VIII . 2014

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