机译:电子材料上亚微米和纳米级大面积抗蚀剂的加性软光刻构图
机译:用于功能电子的富勒烯材料的光诱导和无抗蚀剂压印图案
机译:通过贴花转移光刻和反应性离子束蚀刻在电子材料上的聚二甲基硅氧烷抗蚀剂的微米和亚微米图案化:在高迁移率薄膜晶体管的制造中的应用
机译:使用软光刻图案化和交叉堆叠形成石墨烯P-N结阵列
机译:大面积电子设备的材料:通过交流输运,拉曼光谱和光学器件表征并五苯和石墨烯薄膜。
机译:多金属氧酸盐杂化材料作为可图案化电介质和光刻胶的研究
机译:功能性氧化物和复合材料的软光刻图案
机译:扫描探针光刻。 3.在无意添加溶剂或电解质的情况下,纳米级电化学图案化auand有机抗蚀剂