机译:从头算分子动力学模拟看胺和甲基封端的有机硅低k电介质对氧等离子体的破坏机理
机译:在O <下标> 2 下标>等离子体中的光致抗蚀剂的干法蚀刻期间对多孔低钾有机硅酸盐膜的整体介电介电常数的动态。
机译:低介电常数(low-k)薄膜在等离子过程中的损伤机理
机译:等离子体损坏的有机硅低k薄膜的介电恢复
机译:等离子体对多孔低k的损伤机理研究:工艺开发和介电恢复。
机译:用于微和纳米电子应用的低k介电薄膜的热稳定性的宽带介电光谱表征
机译:使用无氧碳氟化合物等离子体将等离子体损伤和超低k介电薄膜的原位密封降至最低