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【2h】

ONE-LEVEL GRAY-TONE DES IGN- MASK DATA PREPARATION AND PATTERN TRANSFER

机译：一级灰色口径 - 掩盖数据准备和模式转移

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K. Reimer; W. Henke; H. J. Quenzer; W. Pilz; B. Wagner;
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年度 2014
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1. Fabrication of a gray-tone mask and pattern transfer in thick photoresists [J] . Nicolas S., Bosseboeuf A., Bourouina T., Journal of Micromechanics and Microengineering . 1998,第2期

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